2006.09.05 本公司的工程師【谷藤達也先生】，對Hard Disc表面加工進行專門的研究開發， 有關【磁性記錄Disc表面研磨】，精密工學會秋季大會的演講資料。 2006.09.05 由美國紐約州Clarkson大學的CAMP主辦,並於CMP國際會議【第11回『International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization』】,發表與該大學共同研究之成果。 2006.08.21 在美國的各研究所 大學 企業等的超電導研究發表中、Los Alamos國立研究所發表了針對MIPOX的研磨技術的評价結果。 2005.10.27 CMP PAD的業界最新情報已得到更新·····為產學共同開發的評價結果