2007.09.28 本公司关于硬盘表面加工的专业研究开发工程师【谷藤達也氏】在精密工学会秋季大会上发表【磁性记录盘的表面研磨】的演讲资料。 2006.09.05 由美国纽约州Clarkson大学的CAMP主办,并于CMP国际会议【第11回『International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization』】,发表与该大学共同研究之成果。 2006.08.27 在美国国内的研究所，大学，企业发表的许多超电导研究报告中，罗斯阿拉莫斯国立研究所发表了关于MIPOX研究技术的评价结果。 2006.02.27 业界的最新信息已更新··本公司产品“ACP研磨Pad”的发表 2005.10.27 CMP PAD的业界最新信息已得到更新··为产学共同开发的评价结果